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　　隨著電子產(chǎn)品的應(yīng)用越來越廣泛，電子設(shè)備的需求量就會在不斷的增長中，在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的過程中不但會產(chǎn)生大量的工業(yè)污水而且還會產(chǎn)生具有污染性的工業(yè)廢氣，面對工廠產(chǎn)生的這部分工業(yè)廢氣應(yīng)如何處理，本文了解關(guān)于半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)工業(yè)的廢氣處理設(shè)備。

　　半導(dǎo)體芯片加工廠的工業(yè)廢氣主要包含了硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣、硫酸霧等的酸/堿廢氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷總烴等的有機廢氣，具有揮發(fā)性的VOCs以及酸堿廢氣主要來源于對芯片的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中產(chǎn)生的，這部分的廢氣濃度小且排放量大。

　　半導(dǎo)體廢氣采用的是洗滌塔廢氣處理設(shè)備進行處理的，洗滌塔分為立式和臥式，這兩者之間的區(qū)別就在于立式廢氣洗滌塔是氣液兩相逆流接觸，而臥式廢氣洗滌塔是氣液兩相交叉流接觸。

　　洗滌塔廢氣處理設(shè)備主要由循環(huán)水箱、循環(huán)水管路、除霧層、填料層以及塔體組成，設(shè)備的工作流程大致為：酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風(fēng)機→煙囪(達標排放)。

　　除了采用洗滌塔設(shè)備還可以選擇采用沸石轉(zhuǎn)輪或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐。

　　溫馨提示：半導(dǎo)體工業(yè)廢氣需先經(jīng)過預(yù)處理過濾裝置進行大顆粒粉塵及雜質(zhì)的去除才能進入沸石轉(zhuǎn)輪吸附裝置或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐進行后續(xù)的處理。