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UV光解/光氧設(shè)備

UV光解/光氧設(shè)備對(duì)有機(jī)類惡臭處理效果較好,但對(duì)于NH?、H?S等無機(jī)惡臭成分,對(duì)HCl、SO?等刺激性臭味成分反應(yīng)后會(huì)產(chǎn)生二次污染物,使用時(shí)需要注意配套其他處理設(shè)備。...

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  • 產(chǎn)品介紹
  • 參數(shù)工藝
  • 產(chǎn)品特點(diǎn)
  • 應(yīng)用領(lǐng)域

  一、產(chǎn)品介紹

  UV光解/光氧設(shè)備采用短波高能紫外線,對(duì)有機(jī)惡臭氣體進(jìn)行分解。設(shè)備性能溫度、風(fēng)阻小、凈化效率高,是生活和工業(yè)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的除臭設(shè)備。

  二、產(chǎn)品原理

  UV光解/光氧設(shè)備:采用波長(zhǎng)低于280nm,一般采用185nm的UVC紫外光源進(jìn)行廢氣處理。其主要原理是利用中短波紫外線光子所攜帶的能量較強(qiáng)。315nm~280nm的中波紫外,能量強(qiáng)度為3.94eV~4.43eV;280nm~100nm的短波紫外,能量強(qiáng)度為4.43eV~12.4eV,通過紫外線的光子轟擊有機(jī)物的分子鏈,實(shí)現(xiàn)分子鏈的斷裂,斷裂的有機(jī)物成分與氧氣、臭氧等反應(yīng),生成產(chǎn)物為CO?和H?O等無害物質(zhì)。

  UV光催化氧化除臭設(shè)備:與UV光解設(shè)備類似的,還有一種光催化氧化技術(shù)。該設(shè)備采用光催化劑,利用催化劑在紫外光(一般是波長(zhǎng)在365nm以下的光源)的照射下,產(chǎn)生電子空穴。電子空虛分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生羥基自由基,或使其周圍的氧還原成活性離子氧,從而具備極強(qiáng)的氧化還原能力,將光催化劑表面的各種污染物分解。光催化氧化技術(shù)采用的光源波長(zhǎng)較長(zhǎng)、可散射的距離遠(yuǎn),覆蓋的有效凈化區(qū)域空間大,但光催化劑易中毒而失效。

  三、uv光解廢氣結(jié)構(gòu)圖

  

  一、產(chǎn)品工藝

  1、UV光解技術(shù)利用高能紫外線照射有機(jī)氣體或惡臭氣體,破壞有機(jī)氣體的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)惡臭氣體分子裂解成無機(jī)的氣體成分,消除其惡臭味道和危害性。

  2、UV光解技術(shù)在應(yīng)用過程中,UV光線對(duì)廢氣中各組分無差別進(jìn)行照射。當(dāng)空氣中氧氣被照射時(shí),生產(chǎn)臭氧,臭氧對(duì)有機(jī)物有極強(qiáng)的氧化作用,將廢氣中各類成分氧化成無機(jī)物。

  3、UV光解技術(shù)還具備較強(qiáng)的滅菌消毒作用,部分廢氣中含有各類細(xì)菌病毒的,經(jīng)過UV光線照射后,微生物的DNA結(jié)構(gòu)被破壞,失去生物活性。

  二、產(chǎn)品工藝圖

  

光氧光解設(shè)備工藝

  UV光解設(shè)備能高效去除廢氣中的有機(jī)物成分,尤其對(duì)于各類VOCs、硫醚、硫醇等惡臭類物質(zhì)有顯著的凈化作用,脫臭效率可達(dá)99%,對(duì)各類廢氣處理適應(yīng)性強(qiáng)、投資成本低、運(yùn)行功耗低。

  一、應(yīng)用領(lǐng)域

  1、各類惡臭氣體的凈化:如屠宰廠、污水處理的惡臭氣體、養(yǎng)殖場(chǎng)、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等。

  2、適用于各類低濃度的有機(jī)廢氣處理:印刷廠、染料廠、造紙廠及小型噴涂車間等。

  3、對(duì)餐飲行業(yè)產(chǎn)生的油煙氣味、對(duì)其他工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生的低濃度的各類氣味均有較好的凈化效果。

  二、具體實(shí)施

  1、UV光解/光氧設(shè)備對(duì)有機(jī)類惡臭處理效果較好,但對(duì)于NH?、H?S等無機(jī)惡臭成分,對(duì)HCl、SO?等刺激性臭味成分反應(yīng)后會(huì)產(chǎn)生二次污染物,使用時(shí)需要注意配套其他處理設(shè)備。

  2、UV光解/光氧設(shè)備使用時(shí),應(yīng)保持廢氣不含有顆粒物、粉塵、霧滴等成分,以免影響燈管效果和壽命。